Desarrollo de un Sistema Automatizado para la Técnica Reacción y Adsorción Sucesivas de Capas Iónicas (SILAR) a Temperatura Ambiente
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Palabras clave

Fabricación de Nanoestructuras
Crecimiento de Películas Semiconductoras
Fabricación de Semiconductores
Síntesis Químicas
Tratamientos Térmicos
Efectos en la Microestructura

Cómo citar

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Desarrollo De Un Sistema Automatizado Para La Técnica Reacción Y Adsorción Sucesivas De Capas Iónicas (SILAR) a Temperatura Ambiente. Rev. Cubana Fis. 2024, 41 (1), 36-42.

Resumen

En este trabajo presentamos el diseño, fabricación y automatización de un sistema personalizado y asequible, capaz de realizar las técnicas de deposición de capas delgadas Dip-Coating y SILAR a temperatura ambiente. Para la automatización, se reutilizaron partes de equipos en desuso, se fabricaron nuevas piezas mediante manufactura aditiva, y además, se empleó software de código abierto. El dispositivo se controló mediante un Arduino UNO R3. Además, se desarrolló una interfaz gráfica en Python con la biblioteca PyQt para ajustar la configuración del movimiento y transmitir parámetros al Arduino vía comunicación serial. Validamos el sistema mediante la fabricación de capas de Cu2O y CuO, comparando posteriormente sus propiedades estructurales y morfológicas con los resultados reportados en la literatura.

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